电结晶制Co/Pd金属纳米多层膜及磁性能研究

摘要：

以单晶Si(111)为基底使用双槽法电结晶制备Co/Pd纳米多层膜,确定了工艺条件。通过电位阶跃法探讨了镀层晶体成核机理,Co、Pd电结晶初期均为三维瞬时成核过程.使用石英晶体微天平(EQCM)精确测定沉积过程中膜的质量.X射线衍射(XRD)研究显示:多层膜具有较好的晶格取向,出现Co/Pd(111)的合金峰.并用物性测量系统(PPMS)测试了Co/Pd多层膜的磁性能.磁滞回线表明:矫顽力随着磁性层厚度的减小而增大,可达到1130 Oe左右.

关键词： 电结晶 纳米多层膜 磁滞回线 磁性能

作者: 石新红 曹为民 印仁和

作者单位: 上海大学理学院化学系上海200444

会议类型: 国内会议

会议名称: 2007年上海市电子电镀学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 140-145

在线出版日期: 2007-11-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）