多弧离子镀沉积TiAlN薄膜的工艺研究

摘要：

采用多弧离子镀设备在高速钢表面制备了TiAlN薄膜，研究了沉积工艺参数对薄膜性能的影响规律，并且确定了制备TiAlN薄膜的最佳沉积工艺。 实验结果表明：靶电流70A、基底负偏压-100V、沉积温度550℃、氮气分压值1Pa时涂层硬度达到2640HV0.05，结合力约为29.7N，涂层具有最佳的综合性能。

关键词： 多弧离子镀沉积 TiAlN薄膜 沉积工艺 高速钢 涂层性能

作者: 金犁 潘应君

作者单位: 武汉科技大学材料与冶金学院，湖北，武汉，430081

会议类型: 国内会议

会议名称: 湖北省第十届热处理年会

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 32-34

在线出版日期: 2006-10-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）