铜包覆纳米SiO<,2>复合粉体的制备工艺研究

摘要：

采用非均相沉淀法在纳米SiO<,2>表面沉积铜,制备了铜包覆纳米SiO<,2>复合粉体。采用扫描电镜(SEM)、电子能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)和透射电镜(TEM)分析了复合粉体的形貌、成分和结构,研究了pH值和反应温度对复合粉体结构和成分的影响。结果表明:pH=2～3时,利于形成核-壳结构的复合粉体;反应温度能够影响复合粉体的成分,低于40℃时,复合粉体存在Cu<,2>O。制备铜包覆纳米SiO<,2>复合粉体的最佳反应温度为50℃,pH值为2～3。

关键词： 沉淀法 铜包覆纳米SiO2粉体 制备工艺

作者: 杜建华 郭永明 谢凤宽 郑晓辉 李超

作者单位: 装甲兵工程学院装备 再制造工程系,北京 100072 装备再制造国防科技重点实验室,北京 100072

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一次全国机械维修学术会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 87-91

在线出版日期: 2007-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）