VO<,2>功能薄膜的制备工艺研究

摘要：

采用射频磁控溅射沉积方法，加热衬底上溅射制得高价态的五氧化二钒(V2O5)薄膜，结合气氛退火工艺制备VO2薄膜。系统分析了不同溅射工艺参数和退火工艺参数对VO2薄膜结构与光电性能的影响。得到制备VO2薄膜的最佳工艺参数。

关键词： 射频磁控溅射沉积 五氧化二钒薄膜 制备工艺 退火工艺 光电性能 高价态

作者: 王小辉 曹一鸣 卫红 刘志宇 黄涌

作者单位: 广州市光机电技术研究院 广东省现代控制与光机电技术公共实验室 广东 广州 510635

会议类型: 国内会议

会议名称: 07中国(华南地区)真空与光电技术论坛暨广东省真空学会学术年会

会议地点: 广东东莞

会议语种:中文

页码: 37-40

在线出版日期: 2007-12-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）