H<,2>和H<,2>S在MoS<,2>、NiMoS催化剂上的吸附与脱附
主要介绍了无助剂及有Ni为助剂的MoS<,2>催化剂表面上,氢化物种的形成过程及其结构的稳定性。在稳定的MoS<,2>(1010)Mo-边缘上,H<,2>脱附形成─SH基,该过程是一放热过程并极易发生；在部分Ni促进的表面上(1010),H<,2>分子脱附形成表面─SH基和Mo─H基或Ni─H基,该过程是一放热过程,所需能量高于无助剂的(1010)Mo-边缘的情况；在被完全促进的Ni-边缘上,H<,2>解离吸附是一放热过程,脱附形成一对Ni─H和─SH或两个Ni─H物种則是吸热过程；H<,2>S可以稳定的吸附于部分或全部被Ni促进的Mo─边缘表面的Ni空位上,而表面─SH可由吸附的H<,2>S脱附解离形成。
MoS2 NiMoS 分子模型 加氢催化剂 吸附 分子脱附
张健伟 赫广田
大庆石油学院化学化工学院,黑龙江 大庆 163318 大庆石油学院机械科学与工程学院,黑龙江 大庆 163318
国内会议
广州
中文
217-221
2007-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）