硅烷偶联剂修饰蒙脱土过程机理的研究

摘要：

本文用三种不同类型的硅烷偶联剂修饰蒙脱土,通过水杨醛显色法定量结果分析和硅烷化蒙脱土的X射线粉末衍射(XRD)结果分析,阐明了偶联剂修饰蒙脱土的过程机理；认为蒙脱土的活性羟基分布在其端面上；蒙脱土和偶联剂的硅烷化反应优先偶联剂的自聚反应。

关键词： 硅烷偶联剂 蒙脱土 硅烷化反应

作者: 李金梅 苏海全 通拉嘎 王晓丽 雷艳秋

作者单位: 内蒙古大学化学化工学院 呼和浩特 010021

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国化学会第七届全国无机化学学术会议

会议地点: 呼和浩特

会议语种:中文

页码: 704-706

在线出版日期: 2007-07-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）