采用磁控管方式溅射的电子回旋共振等离子体沉积技术的研究

摘要：

将磁控管方式溅射用于微波ECR等离子体沉积技术。在低气压和低温下沉积了高度C轴取向的ZnO薄膜,其膜的沉积速率比普通ECR溅射中所得到的速率大得多,并且在(h)12cm的膜区域内显示出良好的均匀性。

关键词： 磁控管溅射 电子回旋共振 等离子体沉积 ZnO薄膜 沉积速率

作者: 胡希忠 廖军

作者单位: 安源实业股份有限公司工程玻璃厂 江西萍乡 337000

会议类型: 国内会议

会议名称: 2007年赣闽皖苏湘五省煤炭学会联合学术交流会

会议地点: 厦门

会议语种:中文

页码: 30-31

在线出版日期: 2007-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）