基于并行遗传算法的公差优化设计

摘要：

提出了一种基于并行遗传算法的公差优化设计方法。根据成本一公差函数建立以最小制造总成本为目标的非线性公差设计模型。该模型的约束包括装配尺寸链的功能要求和加工能力。用并行遗传算法求解该模型能得到优化的公差。最后,通过公差优化设计实例说明了此方法的有效性。

关键词： 并行遗传算法 公差优化设计 制造成本 非线性公差设计

作者: 匡兵

作者单位: 桂林电子科技大学机电工程学院 桂林 541004

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国仪器仪表学会第九届青年学术会议

会议地点: 合肥

会议语种:中文

页码: 424-427

在线出版日期: 2007-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）