PVD技术在CCL的应用研究
物理气相沉积是在现代物理、化学、材料学、电子学等多学科基础上,经过多年的不断发展而成为一门新兴先进的工程技术。本文论述了运用先进的物理气相沉积(PVD)薄膜技术,提出了新的线路板材工艺。
线路板 物理气相沉积薄膜技术 PVD溅镀法
严光能
国内会议
深圳
中文
225-229
2007-10-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
线路板 物理气相沉积薄膜技术 PVD溅镀法
严光能
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深圳
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225-229
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