纳米氧化钛层柱蒙脱石的合成及其表征
本论文在以TiCl<,4>为原料采用低温水解法制各纳米TiO<,2>的基础上,以二乙醇胺为表面活性剂原位表面修饰纳米TiO<,2>,提出以表面修饰的纳米氧化钛作为新型柱撑剂插层反应蒙脱石,调控制备氧化钛层柱蒙脱石光催化材料,为拓展蒙脱石插层光催化材料的制各工艺提供新的思路。
纳米二氧化钛 蒙脱石 原位修饰 插层反应 低温水解法 光催化材料
余江 黄丹丹 卫建军 王立
北京化工大学化工学院环境催化与分离过程研究组 北京 100029
国内会议
南京
中文
763-764
2007-10-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)