Ni 80Co 20合金膜的各向异性磁电阻及磁畴结构

摘要：

研究人员用射频磁控溅射的方法直接制备了各向异性磁电阻比值较大的Ni 80Co 20合金单层膜，且用改变溅射能量的方法制备了纵横磁电阻比值不同的合金薄膜，并将此归结于面内磁织构的不同，磁力显微镜磁畴分布照片证实了这一点。

关键词： Ni 80Co 20合金膜 异性磁电阻 磁畴结构

作者: 杜军 鹿牧

作者单位: 大学物理系,固体微结构物理国家重点实验室 大学现代分析中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国物理学会第三届纳米磁性材料和物理学术讨论会第五届全国磁性薄膜学术会议

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 24～25

在线出版日期: 1998-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）