CVD复制技术制备ZnS头罩

摘要：

为减轻生产、加工难度和减少材料浪费,提出了CVD复制技术制备ZnS头罩的方法。着重阐述了衬底和CVD过程对复制ZnS头罩的影响,并列举了复制ZnS头罩时衬底材料的要求。

关键词： 化学汽相沉积复制技术 ZnS头罩 衬底材料

作者: 鲁泥藕 霍承松 付利刚 石红春 孙加滢 杨海

作者单位: 北京有色金属研究总院,北京国晶辉红外光学科技有限公司,北京,100088

会议类型: 国内会议

会议名称: 2007年光电探测与制导技术的发展与应用研讨会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 133-135

在线出版日期: 2007-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）