连续非均相沉淀法生长ZnO薄膜及其光致发光性能研究

摘要：

将连续离子层吸附与反应法(SILAR)和液相非均相沉淀技术相结合，提出ZnO薄膜的连续非均相沉淀液相制备技术。以［Zn(NH3)4］2+络离子为前驱体，以下班和Si(100)为衬底，从90℃水溶液中沉积得到ZnO薄膜，XRD分析表明，所得薄膜为六方纤锌矿型多品结构，沿(002)品面抒优取向，AFM测试表明，薄膜表面致密、均匀，ZnO粒子尺度约为200-300nm。在340nm室温紫外光激发下，薄膜产生强的近紫外光发射(-390nm)和若干较弱的深能援发射(-450-500nm)。初步探讨了连续非均相沉淀法生长ZnO薄膜的机理。

关键词： 氧化锌薄膜 连续非均相沉淀 生长模式 光致发光

作者: 高相东 李效民 于伟东

作者单位: 中国科学院上海硅酸盐研究所，高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室，上海定西路1295号 200050

会议类型: 国内会议

会议名称: 第二届中国西安纳米科技研讨会

会议地点: 西安

会议语种:中文

页码: 121-127

在线出版日期: 2003-11-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）