热处理制备Cr2O3-石墨插层化合物的研究

摘要：

以三氧化铬(CrO3)与石墨为原料,利用真空热处理方法制备了三氧化二铬(Cr2O3)石墨的插层化合物(GICs).运用X射线衍射(XRD)分析石墨插层化合物.结果表明:经热处理后,在1400℃时CrO3与石墨形成了纯5阶的石墨的插层化合物.XRD分析表明,对网状层面结构的天然石墨,可以利用物理的方法使一些非碳反应物(原子、分子、离子、或粒子团)插入石墨层间,从而改变石墨的层面结构,使产物出现新的物理性质和化学性质.X射线光电子能谱(XPS)分析和表征了Cr离子以3价的形式存在于石墨插层化合物中.

关键词： 石墨 插层化合物 热处理 三氧化铬

作者: 张艳 刘旭光 许并社

作者单位: 太原理工大学新材料界面科学与工程教育部重点实验室,山西,太原,030024;太原理工大学材料科学与工程学院,山西,太原,030024 太原理工大学新材料界面科学与工程教育部重点实验室,山西,太原,030024;太原理工大学化学化工学院,山西,太原,030024

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九次全国热处理大会

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 302-305

在线出版日期: 2007-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）