中频磁控溅射沉积AlNx薄膜原子力形貌

摘要：

在不同的氮气比例下,固定其他的放电条件,采用中频磁控测射沉积技术在常温下沉积AlNx薄膜.通过原子力显微镜研究了氮气比例对AlNx薄膜形貌和薄膜表面均方根粗糙度的影响.

关键词： 磁控溅射沉积 氮化铝薄膜 表面粗糙度

作者: 牟宗信 王振伟 刘升光 赵华玉

作者单位: 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室

会议类型: 国内会议

会议名称: 2007年航空装备及先进制造技术国际学术会议

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 378-380

在线出版日期: 2007-06-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）