金属铀表面铝薄膜生长行为的XPS研究
室温、超高真空条件下，采用Ar离子溅射沉积的方法在清洁金属铀表面沉积铝薄膜，并利用X射线光电子能谱分析技术原位观察铝薄膜的生长行为。结果表明，薄膜生长过程中，铀铝界面存在较明显的相互作用，导致铀、铝XPS特征谱发生明显变化。U4f谱在380.4eV、392.7eV和加4.2eV处出现新的能量损失峰，同时Al2p XPS谱峰向低能端偏移0.2eV。能量损失峰强度随沉积时间的增加逐渐增强，说明随铝沉积量的增加，铀铝间的扩散行为增强。沉积过程中，铝薄膜以岛状方式生长。
铀 铝薄膜 生长模式 薄膜生长 离子溅射沉积
罗丽珠 刘柯钊 杨江荣 肖红
表面物理与化学国家重点实验室,四川省绵阳市718信箱35分箱,621907
国内会议
四川江油
中文
248-251
2007-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）