ECR-PECVD低温沉积多晶硅薄膜及其结构研究

摘要：

采用电子回旋共振等离子增强化学气相沉积(ECR-PECVD)方法，以SiH4和H2为气源，在普通玻璃衬底上沉积多晶硅薄膜。利用XRD、Raman光谱和TEM研究了衬底温度、氢气流量和微波功率对多晶硅薄膜的影响。通过分析薄膜的结构和形貌，得出适宜低温沉积多晶硅薄膜的工艺参数。

关键词： 多晶硅薄膜 择优取向 晶化率 化学气相沉积 等离子增强 电子回旋共振

作者: 邓婉婷 吴爱民 张广英 秦富文 董闯 姜辛

作者单位: 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连 116024 大连理工大学材料科学与工程学院,大连 116024 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连 116024 大连理工大学物理与光电工程学院,大连 116024 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连 116024 大连理工大学材料科学与工程学院,大连 116024 锡根大学材料工程研究所,锡根 57076德国

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国核学会核材料分会2007年度学术交流会

会议地点: 四川江油

会议语种:中文

页码: 49-53

在线出版日期: 2007-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）