采用(211)碲锌镉衬底制备碲镉汞液相外延薄膜
文中对(211)晶向的CdZnTe衬底进行液相外延生长HgCdTe.获得的碲镉汞液相外延材料的组分为0.30~0.33,薄膜厚度为10~15μm,表面缺陷密度为500cm-2,材料的FWHM达到24弧秒,位错腐蚀坑密度约为2×105cm-2,该材料的表面形貌与采用(111)晶向衬底的HgCdTe外延材料有较大区别.
CdZnTe衬底 HgCdTe薄膜材料 液相外延
徐庆庆 陈新强 魏彦锋 曹妩媚 赵守仁 杨建荣
中国科学院上海技术物理研究所,半导体材料与器件研究中心,上海,200083
国内会议
乌鲁木齐
中文
842-844
2005-08-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)