纳米粒子抛光液的制备及应用*

摘要：

化学机械抛光（CMP）技术是目前广泛接受的全局平整化技术，纳米粒子抛光液是CMP技术的关键要素之一。本文制备了纳米氧化硅、氧化铈、氧化铝粒子抛光液，并研究了其在计算机硬盘基片、数字光盘玻璃基片超精密抛光中的应用。结果表明，采用制备的纳米粒子抛光液及分步抛光技术可实现表面的原子级平整。

关键词： 化学机械抛光 硬盘基片 光盘玻璃基片 纳米抛光液 纳米氧化硅 数字光盘玻璃基片

作者: 雷红 雒建斌

作者单位: 上海大学纳米中心，200444 清华大学摩擦学国家重点实验室，100084

会议类型: 国内会议

会议名称: 第一届全国智能制造学术会议

会议地点: 杭州

会议语种:中文

在线出版日期: 2006-12-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）