平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化
为提高硬磁盘基片平面研磨的加工品质,本文利用计算机仿真对其研磨盘的修盘工艺进行运动学模拟,通过统计修盘器磨片相对研磨盘所划出的轨迹分布,提出了轨迹密度的概念,通过实验证明,轨迹密度可以准确的表征修盘后研磨盘的大致形貌,对优化修盘转速配比和修盘器结构具有重要的指导意义。
精密平面研磨 修盘器 轨迹密度 磨削轨迹 修盘工艺
卢万佳 李维民 杨华
深圳开发磁记录股份有限公司,广东深圳,518035
国内会议
广州
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469-471
2007-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）