一种新型反应室的分析与实验

摘要：

对振动阴极上粉体的运动分析表明粉粒在阴极表面停留的时间与阴极表面倾斜角、气体反吹速度和粉粒大小等有关,其停留时间可达10min以上.用这种等离子反应室对硅粉刻蚀,可在硅粉流经反应室一次即可刻蚀200nm的表面厚度。这意味着纯化硅粉的任务能一次完成。实验结果表明新反应室比常规反应室具有很大的优点。

关键词： 湿法冶金 粉体表面刻蚀 硅粉提纯 阴极 等离子体反应室

作者: 尹盛 王敬义 赵亮 赵伯芳

作者单位: 华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届中国功能材料及其应用学术会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 4093-4095

在线出版日期: 2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）