镁合金表面Ti-TiN复合镀层的阴极多离子制备与表征
表面强化、耐蚀处理对镁及其合金的应用至关重要.采用阴极多离子镀膜技术,在AZ91C镁合金基底上首次成功镀制了强结合力的以Ti为过渡层的TiN复合膜层,并利用高分辨扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、CSM显微划痕测试等技术对复合膜层的形貌、组织结构及性能进行分析研究。结果表明,采用适当的多孤离子镀膜工艺,能在经恰当预处理方法处理的镁合金基底上制备性能良好的TiN膜。膜层均匀、致密,膜基结合力达130mN以上,复合硬度达500HV左右(AZ91镁合金基底125HV)。此外中性盐雾强化实验表明,经该方法处理后的镁合金在ASTM-B117标准测试条件下,腐蚀速度明显降低,经过200h后,表面无明显腐蚀现象。真空多离子镀膜技术有望在镁合金表面防护领域得到应用。
镁合金 阴极多离子 制备工艺 TiN复合层
王成龙 范多旺 刘红忠 赵琳 卢萍 冷娜
兰州交通大学,光电技术与智能控制教育部重点实验室,甘肃,兰州,730070 兰州交通大学,光电技术与智能控制教育部重点实验室,甘肃,兰州,730070;兰州大成自动化工程有限公司,甘肃,兰州,730070 西安交通大学,机械制造系统工程国家重点实验室,陕西,西安,710049
国内会议
武汉
中文
4087-4089
2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）