离子束溅射Si/Ge多层膜的界面结构研究

摘要：

采用离子束溅射技术,在玻璃衬底上制备了不同周期数的Si/Ge多层膜样品.通过Raman光谱和X射线小角衍射对薄膜进行了表征和分析,发现随着生长周期数的增加,层与层之间的互扩散效应逐渐减弱,界面结构逐渐清晰,生长周期为25的样品界面最平整.

关键词： 超晶格材料 Si/Ge多层膜 界面结构 离子束溅射

作者: 陈寒娴 杨瑞东 邓荣斌 秦芳 王茺 杨宇

作者单位: 云南大学,材料科学与工程系,云南,昆明,650091 昆明理工大学,材料科学与冶金工程学院,云南,昆明,650093

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届中国功能材料及其应用学术会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 4075-4077

在线出版日期: 2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）