液相法新工艺制备类金刚石膜的结构及其电学性能分析

采用液相法,在以硅片为阳极的工艺条件下沉积了一层DLC薄膜。通过Raman和FTIR光谱的分析,证实了该薄膜为含氢类金刚石薄膜(a-C:H)。并且对薄膜的交流阻抗谱(EIS)进行了测试和分析,确定该膜有非常高的阻抗值和良好的耐蚀性。
液相法 类金刚石薄膜 交流阻抗谱 电学性能
汲大朋 刘贵昌
大连理工大学,化学工程系,大连,辽宁,116012
国内会议
武汉
中文
3812-3814
2007-11-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)