10T平行强磁场下Ni-纳米Al2O3复合共沉积的研究
将Ni-纳米Al2O3复合电镀过程移置于10T平行强磁场(B//J)中,探讨了有无平行强磁场条件下电流密度对镀层形貌及镀层中纳米颗粒含量的影响规律。结果表明,在10T平行强磁场下,氧化铝颗粒在复合镀层中呈网格状分布,并且网格的尺寸随着电流密度的增加而增加；电流密度显著影响镀层中纳米氧化铝的含量,不论是否施加磁场,当电流密度为2A·dm-2时镀层中颗粒含量最高。施加强磁场时,可使镀层在低电流密度下获得较高的纳米颗粒含量。
平行强磁场 金属镀层 复合共沉积 镍-纳米氧化铝镀层 微涡流
汪超 钟云波 贾晶 任忠鸣 任维丽 邓康
上海大学,上海市现代冶金与材料制备重点实验室,上海,200072
国内会议
武汉
中文
3562-3566
2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）