入射能量对薄膜生长影响的模拟研究

摘要：

在考虑沉积原子入射能量影响的基础上,建立了Si(100)-(2×1)表面上Si薄膜生长的动力学蒙特卡罗模型,并对薄膜生长的初期过程进行了研究。结果表明：随着入射率的降低和温度的升高,不同入射能量对扩散距离影响的差异逐渐减小。在一定的入射能量和入射率下存在一最佳成岛温度,该温度随入射能量的增大而降低；随着入射率的降低,不同能量对最佳成岛温度影响的差异越小。

关键词： 入射能量 动力学蒙特卡罗 扩散距离 最佳成岛温度

作者: 王全彪 王茺 杨瑞东 杨宇

作者单位: 云南大学,工程技术研究院,云南,昆明,650091;红河学院,物理系,云南,蒙自,661100 云南大学,工程技术研究院,云南,昆明,650091

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届中国功能材料及其应用学术会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 2348-2351

在线出版日期: 2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）