Mn掺杂ZnO纳米材料的制备与性能研究
采用射频磁控溅射法在Si(100)衬底上沉积过渡族金属Mn掺杂的ZnO薄膜。将5％及7％原子比的MnO2与ZnO粉末充分混合后,加压制成靶材,通过改变溅射过程中的气氛和衬底温度沉积了Zn1-xMnxO薄膜。X射线衍射和场发射扫描电镜的分析表明：掺入≤7％的Mn原子不会改变薄膜的晶体结构,薄膜呈高度(002)晶面择优取向；薄膜表面均匀致密,颗粒尺寸约为30nm；Mn的掺入使薄膜的电学性能明显改善,但氧分压的使用或者Mn含量过大又会使薄膜的电阻率增加。
磁控溅射 ZnO薄膜 Mn掺杂 电学特性
楼晓波 沈鸿烈 张惠
南京航空航天大学,材料科学与技术学院,江苏,南京,210016
国内会议
武汉
中文
2343-2345
2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）