凹凸结构纳米多孔氧化硅的制备

摘要：

采用金属辅助化学反应刻蚀法制备了具有凹凸结构的纳米多孔氧化硅,利用光学显微镜、原子力显微镜、扫描电子显微镜和透射电子显微镜等,研究了刻蚀时间对纳米多孔氧化硅形貌结构的影响。结果表明：刻蚀初期在强氧化性酸的作用下,硅表面形成一层氧化硅薄膜,进一步刻蚀,氧化硅薄膜出现规则的周期性凹凸结构裂纹.最后展望了这种凹凸结构纳米多孔氧化硅的应用前景。

关键词： 制备工艺 凹凸结构 纳米多孔氧化硅

作者: 蔡勇 孙志刚 H.Akinaga 余海湖 顾尔丹 李咪

作者单位: 武汉理工大学,材料复合新技术国家重点实验室,湖北,武汉,430070 武汉理工大学,材料复合新技术国家重点实验室,湖北,武汉,430070;日本产业综合研究所纳米研究部门,筑波,日本,305-8568 日本产业综合研究所纳米研究部门,筑波,日本,305-8568

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届中国功能材料及其应用学术会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 2155-2157

在线出版日期: 2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）