钛合金表面Si-N-O薄膜的制备及其性能研究

摘要：

采用非平衡磁控溅射(UBMS450)法在钛合金表面制备了Si-N-O薄膜。研究结果表明：氮气流量对薄膜的化学结构、力学性能有很大影响。X射线光电子能谱(XPS)表征显示,随着氮气流量由5ml/min增加到20ml/min,薄膜中的N/Si比从0.36增加到了1.1,力学性能在氮气流量为15ml/min时达到最大值。

关键词： 钛合金 Si-N-O薄膜 磁控溅射 力学性能 植入材料 制备工艺

作者: 黄菊 杨苹 邵甄胰 王伟 冷永祥 孙鸿 黄楠

作者单位: 西南交通大学,材料科学与工程学院,材料先进技术教育部重点实验室,人工器官四川省重点实验室,四川,成都,610031

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届中国功能材料及其应用学术会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 1773-1775

在线出版日期: 2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）