衬底温度对CuI薄膜微结构与性能的影响
采用喷射沉积技术,探讨不同的衬底温度对CuI薄膜的微结构与性能的影响。通过X射线衍射谱,场发射扫描电子显微镜,霍尔测试仪和紫外-可见光分光光度计等测试了CuI薄膜的微结构、表面形貌和光电性能。研究结果表明,衬底温度为120℃时CuI薄膜的结晶性较好,薄膜表面相对均匀致密.可见光透过率随着衬底温度升高先增大后减小,在衬底温度为120℃时最高,近76％,适合作Al:ZnO/p-CuI/n-CIS薄膜太阳能电池的缓冲层.
CuI薄膜 衬底温度 缓冲层 太阳能电池
赵海花 方玲 卢志超 阎有花 赵栋梁 王先友
湘潭大学,化学学院,湖南,湘潭,411105 钢铁研究总院,北京,100081
国内会议
武汉
中文
1505-1507
2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）