锡基氧化物薄膜的制备及结构表征
采用直流反应溅射并结合热处理工艺制备锡基氧化物薄膜(SnOx,1≤x≤2),利用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDX)、X射线衍射仪(XRD)考察退火温度对薄膜表面形貌、组成和结构的影响,并通过恒流充放电初步考察薄膜的电化学性能。研究结果表明,在400～600℃退火温度下制备的SnOx薄膜表面光滑、结构致密；随着退火温度的升高,薄膜中SnO的含量逐渐减少,SnO2的含量逐渐增加,薄膜的晶粒尺寸增大,大小为30～50nm；600℃退火2h获得的SnOx薄膜具有良好的电化学循环稳定性,有望成为高性能的全固态薄膜锂电池阳极材料。
锡基氧化物 薄膜 结构表征 直流溅射
张宏斌 祝要民 裴世轻 李董轩 赵胜利
河南科技大学,材料科学与工程学院,河南,洛阳,471003
国内会议
武汉
中文
1439-1441
2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）