TbFe磁性薄膜的磁力显微镜成像研究
利用磁力显微镜(MFM)对TbFe磁性薄膜进行了不同抬举距离(分别为60～780nm)的磁力成像研究。在实验中,比较了低抬举距离(100nm以下)磁力像中样品一针尖的互相干扰；同时发现在高抬举距离磁力像中,随着抬举距离的增大,出现了与高凸起形貌对应的图像衬度特征,并随抬举距离的变化也改变着位置与强度,一直到抬举距离为仪器的极限值780nm时,形貌干扰仍未消失,对其形成机制进行了分析。
TbFe薄膜 磁力显微镜 抬举距离
王志红 周宇 沈博侃 陈琨
电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054
国内会议
武汉
中文
1266-1267
2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）