溅射气压对FeCoSiB非晶薄膜表面形貌及磁特性的影响
利用磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了FeCoSiB非晶薄膜,研究了溅射Ar气压强对薄膜表面形貌及磁特性的影响。结果表明,薄膜的表面形貌显著依赖于Ar气压强,随着Ar压强的增加,薄膜表面颗粒增大,粗糙度增加并形成柱状微结构。Ar气压强对薄膜磁特性有显著的影响,随Ar压强增加,薄膜的矫顽力增加,而剩磁则呈下降趋势。从薄膜的磁滞回线、矫顽力以及剩磁随溅射气压的变化规律可知,溅射气压较小时制备的薄膜软磁性能较好。
非晶薄膜 溅射气压 表面形貌 矫顽力 磁控溅射
汤如俊 谢巧英 彭斌 张万里 张文旭 蒋洪川
电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054
国内会议
武汉
中文
1114-1116
2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）