Fe3O4缓冲层对CoFe2O4薄膜磁性能的影响
采用射频磁控溅射在基片Si(100)和Fe3O4(20nm)/Si(100)上制备了钴铁氧体(CoFe2O4)薄膜,制备的薄膜在空气气氛中进行300～1000℃的退火处理,采用XRD、VSM分析了薄膜的微结构以及磁性能。结果表明,制备的钴铁氧体薄膜均具有尖晶石结构,Fe3O4缓冲层薄膜促进了钴铁氧体薄膜的结晶,但降低了钴铁氧体薄膜的垂直各向异性和垂直于膜面方向的矫顽力,而钴铁氧体薄膜的磁化强度和矩形度得到了一定的提高。
钴铁氧体 磁性薄膜 磁性能
金沈贤 钟智勇 任学恒 张怀武
电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054
国内会议
武汉
中文
1080-1083
2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）