溅射气压对TbFeCo磁光薄膜的光学常数的影响

摘要：

利用直流磁控溅射制备了TbFeCo/Si薄膜,采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪,测量了用磁控溅射法制备的TbFeCo/Si薄膜的光学常数,测量能量范围为1.5～4.5eV.分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的TbFeCo/Si磁光薄膜的光学常数的影响。实验结果表明,在低能区域,样品的所有光学常数均随压强增加而增加,受制备工艺影响较大。但在高能区域,光学常数随压强的变化相对说来不再明显。

关键词： 磁控溅射 TbFeCo薄膜 椭偏光谱 光学常数 溅射气压

作者: 张勇 张晋敏 余平 田华

作者单位: 贵州大学,电子科学与信息技术学院,贵州,贵阳,550025

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届中国功能材料及其应用学术会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 1074-1076

在线出版日期: 2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）