高分子纳米LB膜的制备及其光刻性能研究
合成并表征了N-十六烷基丙烯酰胺(HDA)和对叔丁基苯酚甲基丙烯酸酯(BPhMA)的共聚物p(HDA-BPhMA)s.当HDA含量较高时,共聚物可在气/液界面上形成稳定,排列紧密的单分子薄膜,并可以Y型膜的方式沉积在各种固体基片上,形成多层均匀的Langmuir-Blodgett(LB)膜。这种LB膜被成功地应用于光刻,获得了分辨率为0.5 μm的LB膜图形.以该图形为抗蚀层,可将图形进一步转移至金属薄膜上,得到分辨率较高的金属图形,在图形转移的过程中,这种LB膜显示出较高的抗蚀性,有望作为纳米抗蚀薄膜材料在亚微米刻蚀领域得到应用。
纳米LB膜 纳米抗蚀薄膜材料 光刻性能 共聚物 刻蚀
曾国良 李铁生 许文俭 张素华 王筠 赵娜 吴养洁
郑州大学,化学系,河南省化学生物与有机化学重点实验室,郑州市先进纳米信息材料重点实验室,河南,郑州,450052 郑州大学,材料科学与工程学院,河南,郑州,450052
国内会议
武汉
中文
281-284
2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）