射频溅射制备氧化镍电致变色薄膜的研究

摘要：

采用射频反应磁控溅射工艺,以纯镍靶为靶材,在SnO2玻璃上制备电致变色NiOx薄膜。通过对薄膜X射线衍射(XRD)、X光电子能谱(XPS)、扫描隧道显微镜(STM)、循环伏安曲线及可见光透过率的测定,探讨了NiOx薄膜的电致变色性能和微观结构之间的关系,研究了热处理过程中的结构变化和表面形貌。测试表明该氧化镍薄膜具有良好的电致变色性能和阳极着色效应,以及较高的使用寿命.

关键词： 氧化镍薄膜 射频磁控溅射 电致变色薄膜 微观结构

作者: 刘化然 阎刚印 刘芳 盛英卓 冯博学

作者单位: 兰州大学,磁学与磁性材料教育部重点实验室,甘肃,兰州,730000

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届中国功能材料及其应用学术会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 257-260

在线出版日期: 2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）