含萘基的光抗蚀剂超薄膜的显影和光分解性质的研究
用LB膜技术将以十二烷基甲基丙烯酰胺(DDMA)为成膜物质,以甲基丙烯酸-β-萘酯(NPMA)为光敏感物质的共聚物(pDDMA-NPMA)在石英等基片上制成超薄膜,并用石英晶体微天平(QCM),AFM,FIIR对其显影过程及光分解机理进行了初步探讨。实验结果表明,光照前,pDDMA-NPMA薄膜对超纯水和四甲基氢氧化铵稳定,但能溶解于丙酮溶液中。用深紫外光照射后的样品,对超纯水稳定,但可在四甲基氢氧化铵显影,且显影效率随显影剂浓度的增大而增大。当用深紫外光连续照射时,在辐照的初期,共聚物中的萘被光诱导而发生拓扑化学反应,即光二聚.随着光照时间的增长,聚合物分子的主链和侧链发生氧化分解反应,生成易挥发的链碎片。
石英晶体微天平 光抗蚀剂 超薄膜 光分解 显影
许文俭 李铁生 曾国良 尚巍 吴养洁
郑州大学,化学系,河南省化学生物和有机化学重点实验室,郑州高级纳米信息材料重点实验室,河南,郑州,450052 郑州大学,材料科学与工程学院,河南,郑州,450052
国内会议
武汉
中文
253-256
2007-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）