Ni/α-PbO2/β-PbO2薄膜的电化学制备及电氧化4-甲基吡啶的性能

摘要：

本文在304型不锈钢基底上,依次电沉积Ni、α-PbO2和β-PbO2制备Ni/α-PbO2/β-PbO2多层薄膜。分析了沉积层的结构、形貌及电氧化4-甲基吡啶的性能。结果表明，活性β-PbO2层的晶粒织构、表面形貌和电氧化性能都随不同中间层而改变。当Ni、α-PbO2和β-PbO2层的厚度分别为3、30、10 μm时,显示最好的电氧化4-甲基吡啶性能,此时活性β-PbO2层呈(200)晶面择优和多棱角的多孔形貌。

关键词： 多层薄膜 甲基吡啶 电化学制备

作者: 邵玉田 周颖华 岑树琼 楼莹 李鹏 李则林 牛振江

作者单位: 浙江师范大学物理化学研究所,浙江省固体表面反应化学重点实验室,浙江,金华,321004 浙江师范大学物理化学研究所,浙江省固体表面反应化学重点实验室,浙江,金华,321004;金华教育学院生化系,浙江,金华,321000

会议类型: 国内会议

会议名称: 2007年国际现代化工技术论坛暨第二届全国化工应用技术开发热点研讨会

会议地点: 苏州

会议语种:中文

页码: 370-373,375

在线出版日期: 2007-11-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）