EVA型降凝剂抑制蜡晶生长机理研究
本文利用分子力学和分子动力学模拟的方法研究了EVA分子的降凝机理.通过考察单个C18分子在蜡晶表面的吸附,确定了蜡晶生长的最优模式。进一步研究了不同构象的EVA分子在蜡晶表面吸附能的变化规律.结果表明:EVA分子的线性平行吸附结构最稳定,而且在10×8蜡晶表面上所能吸附的最大数目为4.在此基础上,建立了估算EVA添加量的简化模型,计算结果与实验值吻合较好。该研究可以为降凝剂分子结构的设计提供指导.
蜡晶生长 降凝剂抑制 EVA分子 吸附结构
张铭 李眄 张金利
天津大学化工学院,天津,300072
国内会议
西宁
中文
368-376
2007-07-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）