热处理对Co-Cr-Ta合金靶材微观结构和性能的影响

摘要：

Co-Cr-Ta合金薄膜是一种重要的磁记录介质,目前广泛应用于磁记录领域。Co-Cr-Ta合金具有铁磁性,有高的磁导率。对于铁磁性靶材来讲,磁通密度(Pass Through Flux,简称PTF)值越高,溅射越容易起孤,溅射效率也会越高,薄膜的质量也会越好。本文讨论了不同热处理制度下Co-Cr-Ta合金微观结构和靶材表面PTF值的变化,并探讨了合金微观结构和靶材表面PTF值之间的关系。

关键词： 钴铬钽合金靶材 磁记录介质 微观结构 铁磁性 热处理

作者: 穆健刚 于宏新 唐培新 李群 姚伟 鲍学进 张凤戈

作者单位: 钢铁研究总院安泰科技股份有限公司,100081

会议类型: 国内会议

会议名称: 2007全国粉末冶金学术及应用技术会议暨海峡两岸粉末冶金技术研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 568-570

在线出版日期: 2007-09-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）