以热均压制备Cr-Si靶材及其性质之研究
高温金属的硅化物在高温时具备良好的物理以及化学性质,故被广泛应用在高温严苛的环境之下.随着薄膜成长的技术日趋进步,对靶材的需要也相对提高。然而,某些靶材会因为制作过程的关系而导致纯度上或结构上有缺陷,这当中包括了成分偏析、晶粒粗大与多孔而不致密等等。而这些缺陷我们可以利用热均压(Hot Isostatic Pressing,HIP)来消除,以得到高相对密度、成分均匀、晶粒细致与等方向性结构的材料。 热均压乃是利用高温高压的氩气,来去除材料内部的孔洞及缺陷,其作用包括:去除铸件孔隙、改善机械性质、使粉末材料及表面蒸镀物具一致性和借扩散键结改善焊接完整性。热均压适用于广泛的材料,特别是是铝合金、工具钢、钛及超合金、蒸气涡轮零件、医学植入、自动化铸件与粉末冶金、靶材制作等工业. 在本研究中,我们利用热均压来制备Cr-Si靶材,而在前处理方面分为封罐法与非封罐法两大类,借此比较两者之间的差異,并进行一系列的测试与分析,进一步讨论大量生产的可行性。
铬硅靶材 封罐 热均压 孔隙
谭中雄 张世贤 李世钦 陈贞光 何信弘 薄慧云
国立成功大学材料科学及工程学系 国立台北科技大学材料及资源工程系 中山科学研究院
国内会议
2007全国粉末冶金学术及应用技术会议暨海峡两岸粉末冶金技术研讨会
北京
中文
344-349
2007-09-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）