磁射流抛光技术研究

摘要：

介绍了一种新型的确定性精密抛光技术--磁射流抛光(MJP)技术.磁流变液在外加磁场的作用下形成硬的准直射流束冲击要抛光的表面.该射流束集束性好，对于抛光距离不敏感，因此，在高陡度的凹形光学零件和内腔等复杂形面进行确定性精密抛光中具有独特的优势.

关键词： 磁射流抛光 射流稳定 确定性抛光 光学零件 精密抛光

作者: 张学成 戴一帆 李圣怡

作者单位: 国防科技大学机电工程与自动化学院,湖南长沙,410073

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006中国科协年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 653-656

在线出版日期: 2006-09-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）