ICP-MS法测定半导体级HNO3中的痕量杂质

摘要：

本文用HP ICP-MS 4500型电感耦合等离子质谱仪,采用冷等离子体方法,用屏蔽炬成功分析了高纯HNO3中包括Fe在内的10多种痕量金属杂质,最低可检测1ppt的钠离子,测定的相对标准偏差(RSD)小于6％,加标回收率为87.1％～100.7％,获得好的结果,方法准确、稳定,且操作简便、快速.

关键词： 电感耦合等离子质谱仪 痕量杂质 冷等离子体 半导体分析

作者: 叶松芳

作者单位: 北京有研半导体材料股份有限公司,100088

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国青年分析测试学术报告会

会议地点: 南京

会议语种:中文

页码: 370-371

在线出版日期: 2002-10-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）