紫外线照射对浅表角质层细胞黑色素的影响

摘要：

皮肤角质层在阻挡和吸收紫外线辐射过程中起重要作用.然而,由于技术和观察方法的原因.以往对角质层细胞黑素研究报道不多。本文用角质层细胞粘附技术和Optomax V计算机成像系统分析比较紫外线(UVR)照射前后浅表角质层细胞黑素变化,旨在了解紫外线辐射对皮肤角质层细胞中黑素含量和分布的影响.

关键词： 紫外线照射 浅表角质层 细胞黑色素 角质层细胞粘附

作者: 王林

作者单位: 海宁市专业皮肤美容门诊

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届东南亚地区医学美容学术大会

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 102-103

在线出版日期: 2000-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）