不同处理状态下(Tb0.3Dy0.7)35Fe65磁致伸缩薄膜的结构变化

摘要：

本实验采用直流磁控溅射法,使用合金靶制备了((Tb0.3Dy0.7)35Fe65薄膜.镀态的薄膜为非晶态.采用高温DSC,在Ar气保护下测量了非晶薄膜的晶化曲线.研究表明在400℃薄膜中没有晶化产生.在400℃薄膜发生了氧化.出现了氧化放热峰.在500℃左右薄膜中发生了晶化.将薄膜在不同温度进行了热处理.采用XRD研究了薄膜的结构.在400℃以下处理时薄膜的均为非晶态.在500℃以上处理的薄膜中出现了a-Fe相.

关键词： 合金薄膜 溅射法 晶化结构

作者: 姜训勇

作者单位: 天津理工学院材料系,天津,300191

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十四届华北地区热处理技术交流会

会议地点: 天津

会议语种:中文

页码: 191-193

在线出版日期: 2002-10-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）