牙膏级沉淀二氧化硅的研制与开发
传统牙膏膏体的基本成份如下:胶合剂、增甜剂、水、磨擦剂、保湿剂、芳香油、防腐剂、泡沫剂和活性剂.常规型牙膏含有35～55％的磨擦剂,最常用的磨擦剂是磷酸二钙二水合物(dicalcium phosphate dihydrate Dcp二水合物)和白垩(碳酸钙),其他可用作牙膏磨擦剂的有磷酸三钙、焦磷酸钙、轻质碳酸钙、氢氧化铝、氧化铝、碳酸镁等,还有沉淀二化硅;在牙膏生产史的100来年中,沉淀二氧化硅用作牙膏磨擦剂是近30年的产物,是后起之秀.这种化学法获得的高度分散的、纯净的微细无定形粉料,具有独特的物理及化学性质.在世界各大洲的牙膏工业中,应用越来越多,有取代传统原料的发展趋势.牙膏级的沉淀二氧化硅,被用于所有类型的护齿产品中,无论是经济的商品牙膏(复配牙膏),还是特种高级牙膏,以及医药保健和透明牙膏,应用后带来的好处,国际上众多的厂商和牙膏配制大师有共识,国内众多的厂商和牙膏配制大师也有共识.各家使用有建树,技术有储备,配制有秘方.本文简要论述了牙膏级沉淀二氧化硅成因基理。
牙膏 沉淀二氧化硅 膏体 产品开发
蒋学清
湖南晨光化工厂,410600
国内会议
上海
中文
52-54
2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）