Fe1-xNix(0≤x≤0.32)纳米线阵列膜的穆斯堡尔谱研究

摘要：

本文在具有纳米级孔洞的多孔氧化铝膜板上,用电化学沉积方法成功地制备了Fe1-xNix合金纳米线有序阵列复合膜.X射线衍射显示出该合金纳米线为BCC结构,且纳米线的方向沿着”110”方向.透射穆斯堡尔谱证明该阵列膜具有很好的垂直各项异性.

关键词： 纳米线阵列膜 穆斯堡尔谱 电化学沉积

作者: 刘青芳 彭勇 王建波 薛德胜 李发伸

会议类型: 国内会议

会议名称: 2001年超精细相互作用与核固体物理研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 23-25

在线出版日期: 2001-02-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）