采用中频反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜

摘要：

本文为了沉积高质量的硬质薄膜,避免直流反应藏射出现的靶中毒和打火现象影响薄膜质量和色彩.采用中频反应磁控技术在不锈钢基体上沉积氮化锆薄膜.实验表明,当炉内氮分压为45％,控制靶电压200V,靶电流为25A,逐步调节Ar/N2比例达到要求的真空炉内气氛浓度,可获得成分均匀,膜层致密,与基体结合牢固的金黄色氮化锆薄膜.

关键词： 磁控溅射 氮化锆 薄膜 中频反应

作者: 孙维连 杨钰瑛 李新领

作者单位: 河北农业大学机电工程学院,保定,071001

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届中国体视学与图像分析学术会议

会议地点: 宁波

会议语种:中文

页码: 301-303

在线出版日期: 2006-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）