重掺Al3+对ZnO薄膜光学性能的影响

摘要：

本文利用射频磁控溅射方法,在Si基片和玻璃基片上制备Al3+掺杂浓度10％-40％的ZnO薄膜,并测试了薄膜的透射谱和光致发光谱.随着Al3+掺杂浓度的提高,ZnO薄膜的吸收边向短波长方向蓝移;当Al3+掺杂浓度达到20％以后,吸收边基本稳定在314nm左右;光致发光谱中,在355nm附近有很强的紫外发射,深能级发光峰的位置随着Al3+掺杂浓度的不同有所差异.

关键词： ZnO薄膜 光致发光谱 透射谱 射频磁控溅射

作者: 袁庆亮 李燕 李金丽 薛书文 韦敏 邓宏

作者单位: 电子科技大学微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十四届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议

会议地点: 广西北海

会议语种:中文

页码: 403-406

在线出版日期: 2006-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）